シード層の電界印加配向制御法による CSD 法 PZT 薄膜の電気特性

抄録

我々はCSD法によって白金電極付きシリコン基板上にPZT薄膜を調製した。また、焼成時に外部電界を印加することが配向性に与える影響を調査した。その結果、電界を印加して焼成したPZT薄膜は電界を印加することなく焼成したPZT薄膜に比べ、(001)方向において大きな配向度を示した。