フェニル基を有するゾル-ゲルハイブリッド膜のナノインデンテーションレオロジー

抄録

Berkovichダイアモンド圧子を用いたナノインデンテーション試験によりポリフェニルシルセスキオキサンハイブリッド膜のゲル化過程を研究した。応力緩和データの解析に必要となる数学的アルゴリズムならびに、これを用い実験的に求められた粘弾性関数をゲル化の過程に結び付けて論じる。