日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第17回秋季シンポジウム
セッションID: 2P61
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シリコン単結晶表面の撥水性に関する分子軌道法を用いた研究
井上 賢太郎田中 諭*内田 希植松 敬三井上 啓一篠原 祐治上原 正光
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抄録
フッ酸洗浄したシリコン単結晶表面が撥水性を示すことに関して、分子軌道法(半経験法PM5)を用いて解析した。Siの(1,1,1)、(1,1,0)、(1,0,0)面のクラスターを用意し、水素終端の場合、一つをOH基で置換した場合、Fで置換した場合について水分子を接近させた場合のエネルギーの変化を計算した。水素で終端している場合には安定な配置は存在せず、ある距離より近づくとエネルギーは単調に増加した。OH,およびFで置換した場合には何れもそれらの近傍に安定な配置が存在した。安定化の度合いについては非経験計算でも検証した。
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©  日本セラミックス協会 2004
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