日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2004年年会講演予稿集
セッションID: 1B28
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化学溶液法によるNd置換Bi4Ti3O12-SrBi4Ti4O15薄膜のケミカルプロセッシングとその特性
*今田 圭一志村 哲生坂本 渉余語 利信
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抄録

最近、交代層構造Bi4Ti3O12-SrBi4Ti4O15(BiT-SBTi)化合物は、優れた耐疲労特性および単体構成成分のBiT,SBTiそれぞれと比較して、より大きな残留分極値を有するために、不揮発性強誘電体メモリのような、様々な薄膜電子デバイスへの応用が期待され、非常に注目を浴びている。また、構造中のBiサイトを希土類元素により置換することで、強誘電性が改善されるということも明らかになってきている。そこで本研究では、化学溶液法によりNd置換BiT-SBTi薄膜を作製し、Nd置換(Bi4-xNdxTi3O12-SrBi4-yNdyTi4O15 :BNT-SBNT/x+y=0, 0.75, 1.0, 1.5)による結晶化挙動や電気的特性へ及ぼす効果について検討した。その結果、BNT-SBNT (x+y=0.75)組成の薄膜は、2Prが30.0μC/cm〈SUP〉2〈/SUP〉という最も優れた強誘電性を示すことがわかった。

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©  日本セラミックス協会 2004
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