光感応性SiO₂微粒子の作製とパターニング

抄録

本研究では、塩基性触媒のNH₃水で、オルトケイ酸テトラエチルを加水分解してSiO₂微粒子を作製し、この微粒子表面を光重合機能をもつメタクリロキシプロピルトリメトキシシランで化学修飾することにより、紫外線照射でパターニング可能な微粒子薄膜を作製した。その結果、検討した方法で微粒子表面に光重合可能な置換基を導入できることがわかった。また、光重合開始剤であるベンゾフェノンを添加して作製した微粒子薄膜にマスクを通して紫外線を照射することでパターンを作製することができた。