日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2006年年会講演予稿集
セッションID: 2G01
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温水処理を伴うゾル-ゲル法によるニッケル‐アルミニウム層状複水酸化物薄膜の作製
*安藤 大介山口 奈緒子忠永 清治辰巳砂 昌弘
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抄録
本研究室では、これまでに温水処理を伴うゾル-ゲル法を用いることで亜鉛‐アルミニウムおよび、マグネシウム‐アルミニウム層状複水酸化物薄膜を作製している。そこで本研究では、電気化学的な応用が期待されるニッケルに注目し、ニッケル‐アルミニウム層状複水酸化物を同様に作製した。 Al(O- sec -C4H9)3とNi(NO3)2から調製したゾルを用い、ソーダライムガラス基板への空気中でのディップコーティングを行った後、400℃での焼成によってNi-Al酸化物系非晶質薄膜を作製した。この薄膜を100℃のNaOH水溶液(pH8)で温水処理することによってニッケル‐アルミニウム層状複水酸化物が薄膜表面に析出した。
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©  日本セラミックス協会 2006
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