抄録
本研究室では、これまでに温水処理を伴うゾル-ゲル法を用いることで亜鉛‐アルミニウムおよび、マグネシウム‐アルミニウム層状複水酸化物薄膜を作製している。そこで本研究では、電気化学的な応用が期待されるニッケルに注目し、ニッケル‐アルミニウム層状複水酸化物を同様に作製した。 Al(O- sec -C4H9)3とNi(NO3)2から調製したゾルを用い、ソーダライムガラス基板への空気中でのディップコーティングを行った後、400℃での焼成によってNi-Al酸化物系非晶質薄膜を作製した。この薄膜を100℃のNaOH水溶液(pH8)で温水処理することによってニッケル‐アルミニウム層状複水酸化物が薄膜表面に析出した。