レーザーCVD法により合成したアルミナ膜の微細組織と結晶配向性

抄録

アルミナは、その高い硬度を利用して、切削工具のコーティング材料として利用されている。CVD法は、緻密なアルミナ膜を合成できるため、アルミナコーティングプロセスとして利用されているが、成膜速度は小さく、また、低硬度のkappa相やgannma相が主相として得られる場合が多い。本研究では、レーザーCVD法によって高硬度のalpha相の高速合成を試み、さらに、成膜条件の検討によって高硬度面であるc面の優先成長を目指した。その結果、成膜速度1 mm/hを達成し、700℃の低温でのalpha相の単一相膜の合成に成功した。講演では、成膜条件による成膜速度、結晶相、結晶の配向、微細組織の変化について発表する。