抄録
ナノインプリントは、安価でありながら、10nm程度の解像度をもつ高スループットリソグラフィー技術として注目されている。しかし、ナノインプリントの対象材料は、主に100℃程度で変形する有機材料であり、パターンの経年変化やその後のプロセス適合性が問題であった。我々は、Glasia®(日本ペイント製)を前駆体とした両面UV照射援用低温熱ナノインプリント法を開発し、ガラスの低温微細パターン転写に成功した。開発したプロセスでは、50nm-25μmというおおよそ3桁異なるパターンを80℃・10秒という低温・短時間で一括成型できる。当日は、プロセスの詳細・ガラス特性・アプリケーションを報告する。
