ゾル・ゲル法による(Bi,Na)TiO₃薄膜の作製と評価

抄録

現在、圧電体材料は多くのデバイスに応用され、実用されているが、主に有害な鉛を含むチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)である。そこで、非鉛系圧電体材料の開発が重要な課題となっている。Bi系ペロブスカイト構造を持つ(Bi,Na)TiO3(以下NBT)は、バルクセラミックスにおいて比較的に大きな分極特性を示すことから非鉛圧電材料として注目されている。しかし、アルカリの蒸発などにより、緻密な焼結体を得ることが難しい。そこで本研究では、薄膜の低温作製を目的とし、ゾル・ゲル法によりNBT薄膜を作製し、その誘電特性および圧電特性の評価を行った。