エアロゾルデポジション法により形成した酸化チタン薄膜の超親水性

抄録

セラミック膜の常温形成技術であるエアロゾルデポジション法を用いて，サブミクロン粒子径のアナタース型酸化チタン(TiO₂)微粒子を原料とし，ガラス，金属基材上に膜厚200～1000nmの膜を形成させた．これらの表面形態，構造の観察と紫外線照射による光触媒超親水性効果の評価を行った．このAD酸化チタン薄膜はアズデポジションでは親水性を呈しないが，300℃以上の比較的低温熱処理により，接触角がほぼ０°となる超親水性を発揮した．また膜厚の厚いほど親水効果は高まった．