抄録
近年、電子デバイス作成用の微細加工プロセスとして、ナノインプリント法が開発されている。これまでのナノインプリントにおいてはワーク材としてはPMMAなどのポリマーか低融点ガラスが用いられてきた。これは、ワーク材の熱可塑性を利用するために、ワーク材はガラス転移点の低い材料であることが必要であることに起因している。これに対し、本研究では過去に培ってきたゲルキャスティング法のノウハウを生かし、これをナノインプリントと組み合わせる事によりセラミックスへの微細加工技術としての新規プロセスを開発することを目的として研究を行った。本発表では2ミクロンオーダーの成形体の作成に成功した例を示し、同手法の今後の展開のための問題点と優位性を紹介する。
