抄録
界面活性剤である臭化n-ヘキサデシルトリメチルアンモニウムをテンプレートとし、ゾル-ゲル法によりメソポーラスシリカの合成を行った。得られた試料はは未焼成試料で2nm程度の細孔径を有するMCM-41型であった。熱分析機能を有する高温X線を用いてこのMCM-41型メソポーラスシリカの熱処理時のメソ孔の収縮変化のその場観察を行った。200～300℃の範囲において発熱を伴う急激な体積収縮を示した。また、赤外線分光分析の結果から、この温度域においてテンプレートである臭化n-ヘキサデシルトリメチルアンモニウムが消失していることが明らかとなった。
