シリカガラス中のSiCl基およびSiF基の格子間O₂およびH₂Oとの反応性

抄録

合成シリカガラス中に含まれることの多いハロゲン不純物であるSiCl基とSiF基の格子間O2およびH2O分子との反応性を調べた。SiCl基はO2と反応して格子間Cl2分子を、またH2Oと反応して格子間HCl分子を生成したが、SiF基は同様の反応を起こさなかった。これらの違いは、それぞれのモデル分子と考えられるSiCl4とSiF4の性質および熱力学的データを用いてうまく説明できた。