日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2008年年会講演予稿集
セッションID: 3D10
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シリカで表面修飾されたフェニルシルセスキオキサン中空粒子の作製
*片桐 寛忠永 清治辰巳砂 昌弘
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抄録
酸-塩基触媒ゾル-ゲル法によって調製したフェニルシルセスキオキサンゾルに様々な量のテトラエトキシシランを加えることにより、フェニルシルセスキオキサン微粒子表面をシリカで修飾した。テトラエトキシシランの投入量が増加すると、粒子表面に修飾するシリカ量が増加した。表面修飾した微粒子をエタノールで洗浄することにより、中空粒子を得ることができた。
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©  日本セラミックス協会 2008
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