シリカで表面修飾されたフェニルシルセスキオキサン中空粒子の作製

抄録

酸－塩基触媒ゾル－ゲル法によって調製したフェニルシルセスキオキサンゾルに様々な量のテトラエトキシシランを加えることにより、フェニルシルセスキオキサン微粒子表面をシリカで修飾した。テトラエトキシシランの投入量が増加すると、粒子表面に修飾するシリカ量が増加した。表面修飾した微粒子をエタノールで洗浄することにより、中空粒子を得ることができた。