Gd₂O₃-MoO₃系薄膜の結晶化挙動および結晶パターニング

抄録

ゾルゲル法を用いて石英ガラス基板上に25Gd₂O₃-75MoO₃薄膜を作製し、結晶化挙動について研究を行った。X線回折とラマン散乱スペクトル測定により調査した結果、結晶化ピーク温度（625℃）にて短時間（5時間以下）の熱処理を行うことにより、強誘電性・強弾性結晶であるβ’-Gd₂(MoO₄)₃結晶が析出することを見出した。また、石英ガラス基板上に作製した前駆体薄膜に波長1080nmのcw Yb:YVO₄ファイバーレーザー照射を行い、結晶ラインの作製を試みた。