抄録
水分解光触媒合成では欠陥が少なく,かつ均一な組成の試料合成が求められている。水溶液を利用したプロセスでは,均一な組成の試料が温和な条件での熱処理により合成することが可能なため有用な合成手法であるといえる。また,光触媒では酸化還元反応が光触媒表面で進行するため,表面特性が非常に重要な要素の一つとなっている。水熱処理やフラックス処理はセラミックス表面の構造を顕著に変化させる化学プロセス手法であり,これらの手法を利用することで光触媒特性を変化させることが可能になると期待される。本講演では,最近我々が行ってきた水溶液プロセスおよび化学プロセスを利用した光触媒開発について紹介する。