光電気化学的手法による貴金属ドープ酸化鉄薄膜の作製と光アノード特性

抄録

無電解反応により硫酸鉄（II）水溶液から金属基板上に酸化鉄（Fe₂O₃）薄膜の形成を行った。膜形成時の金属基板に対する光照射（> 400 nm）により暗反応と比較して膜成長速度が増大することが分かった。また、反応溶液に白金塩を添加することでPt⁴⁺を固溶したFe₂O₃薄膜が生成した。800℃焼成後のPt-Fe₂O₃薄膜は可視光（>420 nm）照射により発生するアノード光電流はPt未添加の薄膜と比べて大きく増大した。