日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2011年年会講演予稿集
セッションID: 1B29
会議情報

PLD法により作製した MgAl2O4-(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4薄膜の磁気光学効果
*三栖 健史坂元 尚紀篠崎 和夫安達 信泰鈴木 久男脇谷 尚樹
著者情報
キーワード: 薄膜, 磁性体, 磁気光学効果
会議録・要旨集 フリー

詳細
抄録
磁性材料は、光アイソレーター、磁気記録媒体、電磁波吸収材量、永久磁石などに幅広く利用されている。光アイソレーターなどの光通信装置には、磁気光学材料としてイットリウム鉄ガーネットやBi置換希土類ガーネットなどが用いられているが、短波長領域での透光性は高くない。そのため、短波長半導体レーザーのデバイスとして用いることができる、短波長域で透光性の高い磁性体の開発が求められている。本研究では高い飽和磁化を持つ(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4(NZF)に、NZFと同じスピネル構造を有し高い透光性を持つMgAl2O4(MA)を固溶させることでスピネル構造を有する透光性の高い磁性体の開発を試みた。シリカガラス基板上にMA(100-x)-NZFx薄膜をPLD法により作製し特性評価を行った。
著者関連情報
©  日本セラミックス協会 2011
前の記事 次の記事
feedback
Top