ダイナミックオーロラPLD法における磁場印加がスピネルフェライト薄膜の磁気特性に及ぼす影響

抄録

ソフトフェライトの一つであるZnFe2O4(ZF)は通常室温において常磁性を示すが、超急冷法など特定の方法で作製したZFにおいては、陽イオンのサイトの入れ替えが起こりフェリ磁性を示すことが報告されている。 また、本研究室のダイナミックオーロラPLD装置を用いて磁場印加中で作製したZF薄膜においても、陽イオンのランダム配列が起こりフェリ磁性を示す事が報告されている。そこで本研究では、ZF以外のフェライトにおいても同様の磁場印加効果が得られるかNiFe2O4(NF)、CuFe2O4(CuF)、CdFe2O4(CdF)を用いて検討を行った。