抄録
チタン酸バリウム(BT)は、ペロブスカイト型構造を有する代表的な強誘電体化合物である。BTは積層セラミックコンデンサ(MLCC)などに応用されている。近年、デバイスの小型化、高性能化のために薄膜化が求められている。本研究では、装置が安価、低温合成が可能、組成制御が容易といった優れた工業的メリットを有する化学溶液法(CSD法)によりBT薄膜を作製した。均質で高重合度を有する前駆体溶液を調製するために、部分加水分解法を用いて0.3Mの高濃度BT前駆体溶液を調製した。基板はPt/Ti/SiO2/Si基板を用い、LaNiO3(LNO)シード層上(LNO/Pt/Ti/SiO2/Si)にBT薄膜を作製した。
