日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2011年年会講演予稿集
セッションID: 3H18
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沿面放電による酸化物薄膜の形成
伊豫田 正彦鍋田 圭吾鹿谷 真博*奥谷 昌之
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抄録
スパッタリングや蒸着法など多くの製膜では減圧下や高温下での反応が利用されているため、実用性の観点からさらに簡便な手法が求められている。これまで本研究室では、沿面放電を利用した酸 化物薄膜の形成を試み、酸化亜鉛薄膜の単相化を報告した。そこでさらに酸化スズ薄膜の形成を試みたが、放電エネルギーの伝達にロスが発生して原料の分解反応が十分に進行せず、中間成生物が得られるのみであった。本研究は、従来のアルミナよりも比誘電率の高いジルコニアを誘電体基板として使用することで高エネルギーを発生する電極を作製し、酸化スズ薄膜の形成を検討した。
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©  日本セラミックス協会 2011
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