抄録
Nb板をNa-Si融液中1200 Kで12 h加熱することで，その表面に厚さ約70 μmの緻密NbSi2層が形成された．このNbSi2層の厚さは，加熱温度に伴い増加し，加熱時間の平方根に比例して増加した．表面にNbSi2層が生成したNb片は大気中1400 K 10 hの加熱後も形状を保ち，重量変化もほとんどなかったが，大気中，1000 K，10 hの加熱では，試料表面が著しく酸化され，試料は粉化した．これは，ペスト現象と呼ばれる，多くのケイ化物で観察される低温における脆性的な破壊を伴う著しい酸化現象によるものと考えられた．
