抄録
我々はナノ粒子をノズルから噴射し、対向する基板上に堆積膜を形成する、ガスデポジション(ＧＤ)法)およびエアロゾル化ガスデポジション(ＡＧＤ)法について、1981年以来研究開発を進めてきた。今回、耐熱分野やイオン電導分野へ応用が進められているジルコニア粉を、このＡＧＤ法を用いて、常温で簡便に緻密成膜が出来るかどうか検討した。
当初すでに、アルミナ等で成膜性が確認できている１μm前後の粒子径のジルコニア粉での成膜を試したが、成功にはいたらなかった。そこで、今までの通説とは異なるが、市販されている湿式法の10μmまでの１１種類のジルコニア粒子を準備し、今まで注目されていなかったその比表面積にも注目し、それらの成膜条件を調べた。
結果、平均粒子径が2.1μｍ以上3.5μｍ以下で、かつその比表面積が4.4 m2/g以上6.5 m2/g以下のジルコニア粉を使用した場合、緻密な成膜が可能であった。
