日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2012年年会講演予稿集
セッションID: 2E03
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SiCレーザろう付けプロセス技術の開発
*須山 章子田中 明河野 渉
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抄録
従来の接合技術では,接合体のサイズ・形状は接合炉のサイズにより制限され,炉のサイズより大きいものは接合できなかった.そこで,炉を使用せずに,大気中で局部加熱によりSiCどうしを接合する技術を開発するため,大気中で施工可能なレーザを熱源として,局部加熱によりセラミックスろう材でSiCどうしをろう付けする方法について検討を開始した.  φ5.5×25mmの高強度反応焼結SiC基材2pを,含有する遊離Siの融点未満で溶融する酸化物セラミックろう材を用いて,ろう付けプロセス条件として,レーザ出力,レーザビームプロファイルを変えて,実験を行った.そして,接合層の微構造及び接合強度(4点曲げ強度)について評価した.
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©  日本セラミックス協会 2012
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