ゾル－ゲル法により作製されるTiO₂薄膜の残留応力に及ぼす熱処理条件の効果

抄録

モル比Ti(OC3H7i)4： H2O：HNO3：C2H5OH ＝ 1：1：0.2：20なる溶液をコーティング液とするゾル－ゲル法によってSi(100)ウェハ上にチタニアゲル膜を作製し、100℃間隔で10 minずつ900℃まで順次熱処理し、熱処理を行うたびに薄膜の面内残留応力を測定した。残留応力（引張応力）は熱処理温度の上層とともに増大し、熱処理温度を400℃から600℃まで上昇させると若干減少した。熱処理温度を600℃以上に上奏させると残留応力は急激に増大した。