ゾル－ゲル法により作製されるTiO₂薄膜の結晶化挙動に及ぼすH₂O量の効果

抄録

ゾル-ゲル法によるセラミック薄膜の作製は、アルコキシド溶液から作製される非晶質ゲル膜を、500 ºC以上の温度で焼成して行われる。しかし、ゾル－ゲル法により作製される薄膜において、アルコキシドの加水分解に使用するH2Oの量が膜の結晶化に及ぼす影響ついて詳細に検討した例はない。本研究ではゾル-ゲル法によってTiO2膜を作製し、アルコキシド溶液に加えるH2O量がTiO2膜の結晶化に与える影響を調査した。