抄録
2～10 nmの細孔を持つメソポーラス材料は機能性有機分子やナノ粒子を細孔中に取り込む事ができるため触媒や吸着剤等への応用が期待されている。さらに、これらメソ孔を有する酸化物材料を薄膜化し、マイクロメートルオーダーのパターンニングを施すことで、lab-on-a-chip等の応用分野への利用可能性が広がり、医療や創薬分野での応用が期待されている。パターン形成に広く利用されるリソグラフィでは、一般的に、イニシエータおよび重合性有機官能基が必要であるため、利用可能な出発原料は制限される。本研究では、簡便なUV光照射を用いて、構造規定分子（SDA:Structure-directing agent）の光活性を利用することにより、イニシエータおよび重合性有機官能基を含有しない系に対しても適用可能な、新規メソポーラス酸化物薄膜のパターンニング手法を報告する。
