日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2012年年会講演予稿集
セッションID: 3B04
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ゾル-ゲル法により作製される透明導電性セラミック薄膜をプラスチックス表面に転写する新しい技術の開発
*福井 隆文内山 弘章幸塚 広光
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抄録
Si(100)基板上に有機高分子膜を剥離層として作製し、ゾル-ゲル法によって厚さ0.72 ミクロンのITO膜を得た。このITO薄膜上にポリカーボネート(PC)板を載せ、近赤外集光加熱炉を用いて、Si(100)基板の発熱を利用してPC板表面の溶融によってPC板とITO膜を接着した。接着後にSi(100)基板を剥がすことによってITO薄膜をPC板上に転写した。近赤外集光加熱炉中での加熱時間を長くする、あるいは加熱温度を高くすると、転写面積は大きくなるが、PC板の変形を伴うことがわかった。PC板上に作製したITO薄膜が導電性をもつことが確認できた。
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©  日本セラミックス協会 2012
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