精密工学会学術講演会講演論文集
2002年度精密工学会秋季大会
セッションID: J15
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プラナリゼーションCMPとその応用(1)
フュームドシリカスラリーの遠心分離による粗大粒子除去
*羽場 真一, 福田 啓司, 太田 慶治, 吉田 光一, 木下 正治, 河東田 隆
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抄録
ILD CMPにおいては、酸化膜へのDefect対策としてスラリー中の粗大粒子除去が重要である。しかし、一般的な精密フィルターの分級においては、目詰まりに伴う経時的な性能劣化が見られるため、大量のフュームドシリカを連続的に分級することが困難である。そこで、分級技術の一つである遠心分離を用い、フュームドシリカスラリーの粗大粒子除去を試みた。評価には、固形分蓄積型と固形分自動排出型の二種類の遠心分離機を用いた。固形分蓄積型の場合、遠心処理されたシリカ固形分が遠心筒内部に付着し、経時的に遠心筒内部の内径が狭くなるため、分級性能の劣化が見られた。固形分自動排出型は、遠心処理後のシリカ固形分を連続的に排出し、遠心筒内部の内径を保持するため、安定した分級が可能であることが分かった。しかし、固形分自動排出型遠心機は、比較的遠心能力が低いため、比重の低いシリカ粒子の分級は困難であると考えられたが、スラリー流量と遠心筒内部のスラリー滞留時間を最適化することにより、連続的に>1μmの粗大粒子を90%以上除去することが出来た。
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© 2002 公益社団法人 精密工学会
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