精密工学会学術講演会講演論文集
2002年度精密工学会秋季大会
セッションID: J23
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プラナリゼーションCMPとその応用(3)
新しいベルジャー型CMP装置(第2報)
ベルジャー内の雰囲気ガスとCMP特性
*土肥 俊郎, 瀬山 貴司, 木下 将毅, 河西 敏雄
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抄録
前回、加工雰囲気中のガスに着目し、実験を行った結果、パッドの回転数や加工圧力との関係において非常に興味深いデータを得る事ができた。今回は、また異なる視点から加工雰囲気中のガスとCMP特性との関係について検討していく。
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© 2002 公益社団法人 精密工学会
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