プラズマCVMプロセス中のCF,CF₂ラジカルの分光計測

レーザー誘起蛍光分光と紫外線吸収分光とによるラジカル密度分布診断

抄録

大気圧下での高周波プラズマを用いたプラズマCVMの開発が進められているが、このプロセス開発においては、プラズマ中の反応性ラジカル種とプロセス特性との相関を明らかにする必要がある。そこで本研究では、プラズマへの投入電力量およびガス組成を変化させた際のCF, CF₂ラジカルの空間密度分布像を，OPOパルスレーザー装置を用いたレーザー誘起蛍光分光法（Laser-Induced Fluorescence spectroscopy; LIF）により計測した。ラジカルの種類，プラズマ投入電力，ガス組成に応じた空間密度分布の違いが明らかとなった．今後、紫外吸収分光法（Ultra-Violet Absorption spectroscopy; UVA）を用いてラジカル絶対密度を求めることによって、プロセスに関わるラジカルがどの程度の割合で解離しているかを把握する。また、LIFの空間分布像と関連づけることにより、完全な空間分布像取得を目指している。