CMPに与える表面トポグラフィーの影響解析

辻村 学; 松尾 尚典; 檜山 浩國; 太田 正廣

doi:10.11522/pscjspe.2002A.0.623.0

2002年度精密工学会秋季大会

セッションID: L79

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2002A.0.623.0

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主催: 社団法人精密工学会

研磨加工技術の新展開（2）

CMPに与える表面トポグラフィーの影響解析

*辻村学, 松尾尚典, 檜山浩國, 太田正廣

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キーワード: ナノトポグラフィ, 研磨, 有限要素法解析, ウェーハうねり

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抄録

被研磨面の表面トポグラフィーが研磨結果に与える影響をFEMで解析した.表面を2次元正弦波のみならず,2次元三角波や2次元正弦波で仮定し,かつテーブル回転数の影響も考慮した.2次元三角波や2次元正弦波の場合がより過研磨が起こりやすいことや,回転によりパッド剛性が大きくなることを示せた.またナノトポグラフィーと共に他のプロセスのPV値，λと許容過研磨量の関係を示すことができた.

責任著者(Corresponding author)

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