抄録
光散乱法を用いて超精密加工表面のナノ構造を測定できるシステムの開発を行っている。これまで、Siウエハ上のナノパーティクルやナノスクラッチ、さらにサブナノメータオーダのマイクロラフネスを同時に測定できるシステムを開発している。今回、マイクロラフネスの検出原理、方法に改良を加えてより精度の高い粗さ測定精度を得ることを試みた。また、パターン未形成のベアSiウエハ表面に対してHF濃度を変化させたウエット洗浄を行い、洗浄前後の粗さ値の変化を本測定機と位相シフト干渉計と比較測定から本ラフネス測定法のの実証を試みた。以上のことについて報告する。
