磁気ディスク基板の高能率超平滑ポリシング ポリシング過程における除去速度の変化の検討

安井 平司; 高倉 奨

doi:10.11522/pscjspe.2003S.0.273.0

2003年度精密工学会春季大会

セッションID: F09

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2003S.0.273.0

会議情報

主催: 社団法人精密工学会

超平滑機械加工（2）

磁気ディスク基板の高能率超平滑ポリシング

ポリシング過程における除去速度の変化の検討

*安井平司, 高倉奨

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キーワード: 超平滑ポリシング, 磁気ディスク, 除去速度, 表面粗さ

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抄録

筆者等は先に，磁気ディスク基板の超平滑ポリシングを行う方策として，従来実施されているポリシング速度の数倍にするような，高速ポリシング有効であることを示した．本研究では，そのような高速ポリシングを行う場合に生じると考えられる，ポリシング過程におけるポリシャ表面状態の変化の影響について，除去速度の変化の観点から検討する．

責任著者(Corresponding author)

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