精密工学会学術講演会講演論文集
2003年度精密工学会春季大会
セッションID: F80
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プラナリゼーションCMPとその応用(4)
砥粒内包研磨パッドの開発(第2報)
*佐藤 誠野浪 亨左光 大和石崎 順二兼岩 利枝
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キーワード: 固定砥粒, 環境, 研磨
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抄録
先報では、砥粒が遊離しやすい様に樹脂の網の中に砥粒が内包されている構造の砥粒内包研磨パッドを作成し、各種研磨ルブリカントにて、シリコンべアウェーハを用いて研磨性能評価を行なった。本報では、酸化膜付シリコンウェーハを用いて研磨性能評価を行なう。
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© 2003 公益社団法人 精密工学会
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