エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第1報) 定在エバネッセント強度分布の適用

稲月 友一; 梶原 優介; 高橋 哲; 高増 潔

doi:10.11522/pscjspe.2004S.0.797.0

2004年度精密工学会春季大会

セッションID: N80

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2004S.0.797.0

会議情報

主催: 社団法人精密工学会

メカノフォトニクス(5)

エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第1報)

定在エバネッセント強度分布の適用

*稲月友一, 梶原優介, 高橋哲, 高増潔

著者情報

キーワード: 近接場光, エバネッセント光, 光造形, 定在波

会議録・要旨集フリー

詳細

抄録

　近年,光を利用した加工法,特にRP技術のひとつである光造形法が注目されている.本研究では,高分解能制御が可能な近接場光(エバネッセント光)を露光エネルギとして利用し,高精度かつ設計自由度の高いナノ構造創製技術の確立を目指す.第1報として,全反射を利用したエバネッセント光強度分布の制御法の確立に向け,対向ビーム入射による定在波を発生させる手法を提案し,その基礎実験を行う.

責任著者(Corresponding author)

J-STAGEへの登録はこちら（無料）