レーザアブレーションによる集積回路/液晶ディスプレイの異物除去技術

抄録

高いフォントエネルギーを有するエキシマレーザ(ArF)により、集積回路上の異物をアブレーションして確実に除去する手法の検討を進めている。本技術の特徴は、異物個々で異なる成分や体積に応じてアブレーションするが基板にはダメージを与えない適正照射光量制御技術と、周辺の再汚染を防ぐ為の静電力による回収技術である。本報告では、2次元成分分析技術とレジスト残りを想定した適正照射光量選定実験結果について述べる。