液晶マスクを用いたマイクロ光造形法に関する研究 グレースケールを用いたオーバハング形状造形時の余剰成長の抑制

小田 剛輝; 三好 隆志; 高谷 裕浩; 河 兌坪

doi:10.11522/pscjspe.2005S.0.26.0

2005年度精密工学会春季大会

セッションID: A33

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2005S.0.26.0

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主催: 社団法人精密工学会

三次元造形(1)

液晶マスクを用いたマイクロ光造形法に関する研究

グレースケールを用いたオーバハング形状造形時の余剰成長の抑制

*小田剛輝, 三好隆志, 高谷裕浩, 河兌坪

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キーワード: グレースケールマスク, マイクロ光造形法, オーバハング形状, ラピッドプロトタイピング, 光硬化性樹脂, 余剰成長

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抄録

本研究では液晶ディスプレイを露光マスクとして用いた液晶マイクロ光造形法を提案しており、3D-CADから高速·簡単·自動的に高精度なマイクロ3次元構造物の作製が可能なマイクロマシニング技術である。本稿ではオーバハング形状を持つマイクロ3次元構造物の作製時に問題となっている余剰成長の特性を調べ、余剰成長を抑制するため液晶マスクに用いるグレースケールの適用条件についての検討を行なった.

責任著者(Corresponding author)

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