抄録
ダイヤモンド状炭素(Diamond-Like Carbon: DLC)膜は,耐摩耗性,低摩擦係数,ガスバリア性,高絶縁性,等様々な優れた性質を有す.生産性を考えるうえでDLC膜合成の高速化は重要である.本研究では基板周辺に磁場を援用し高密度なプラズマを発生させるマグネトロンCVD法によりDLC膜を高速かつ選択的に合成することを目的とする.さらに高電圧ナノパルスを発生させるSIサイリスタ素子を用いたパルス電源を使用した.結果磁場を援用することにより援用しない場合に比較して最大約50倍の合成レートが得られた.
