超高精度X線集光ミラーの作製と集光特性の評価

抄録

本研究の目的は、超高精度X線集光ミラーの作製により、X線のナノ集光を実現することである。これまで、15keVのX線で90nmの集光サイズを実現している。本研究では、さらに大きなNAを持つミラーを作製することで、設計上50nm以下の集光サイズを実現するミラーの作製を行った。集光特性の評価を行った結果、設計値と同等の集光サイズが得られた。