磁気ディスク基板の超高能率ポリシングに関する基礎的研究

磁気ディスク基板とポリシャの接触面積に及ぼす圧力の影響

抄録

先の研究で，磁気ディスク基板のポリシング加工において，高圧力・高速度が高能率化に対し有用であることが見出された．除去速度は，工作物とポリシャ表面との接触状態によって変化し，その接触状態にはポリシング圧力が影響を及ぼすと予想される．本研究では，負荷圧力と接触状態の関係を検討し，その結果，負荷圧力を大きくすると，ポリシャ表面の空孔が押しつぶされ，接触面積率が増加することがわかった．