波長走査干渉法による半導体マスクガラスの光学的厚さ計測

抄録

半導体マスクガラスは平行平板であるために、通常のフィゾー干渉計で形状や厚さを評価しようとすると、数種類の干渉縞が互いに重なりそれぞれの位相を決定することが困難となる。波長走査干渉法において周波数領域でこれらの干渉縞を分離することにより、大口径のガラスの表面形状、光学的厚さを精密に測定する手法として有望である。波長633nm領域で７インチ四角のマスクガラスの光学的厚さの絶対値を測定した。