イオンビームを用いたゼロデュアの微少量加工における表面粗さの評価

Ar+イオンのエネルギーが3～10keVの場合

抄録

EUVL(極端紫外線リソグラフィー)用非球面ミラー基盤の最終形状修正には、Ion Beam Figuringが有力視されている。EUVLミラー基盤として有力視されている低熱膨張ガラス(ゼロデュア)はイオンビーム加工後に表面が荒れる。そこで、本研究では、Ar+イオンビーム(イオンエネルギー:3～10keV)でゼロデュアを加工した場合の表面粗さ(MSFR,HSFR)を評価したので、これについて報告する。