定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査(第3報) 離散的サンプルを用いた解像特性の実験的検討

臼杵 深; 西岡 宏晃; 高橋 哲; 高増 潔

doi:10.11522/pscjspe.2007S.0.353.0

2007年度精密工学会春季大会

セッションID: D44

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2007S.0.353.0

会議情報

主催: 社団法人精密工学会

定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査(第3報)

離散的サンプルを用いた解像特性の実験的検討

*臼杵深, 西岡宏晃, 高橋哲, 高増潔

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キーワード: 欠陥検査, 超解像光学, 定在波照明

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抄録

高解像力を持ち且つ高スループットな半導体欠陥検査技術の開発にあたって,我々はPZTを用いて干渉縞による周期的照明パターンをシフトさせ,ナノオーダの光散乱情報を含む複数画像を取得し,計算機による後処理を加えることで,レイリー限界を超えた解像を行う方法を研究している.提案方法の解像特性を実験的に検証するために,離散的なサンプルを用いた超解像実験を行ったのでここに報告する.

責任著者(Corresponding author)

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