走査型近接場光学顕微鏡のための2開孔プローブの開発(1)

集束イオンビーム加工装置による金属薄膜上の開孔対の作製

抄録

走査型近接場光学顕微鏡の高分解能プローブ開発のために,3次元境界要素法を用いて,金属薄膜に設けた微小開孔対の電磁場解析を行った.その結果、開孔間の狭壁部に近接場が集中することが判明した.また,開孔対の形状を変化させることで開孔付近の電磁場の様子が大きく変化することも判った.この結果に基づき,微小開孔対プローブの実現のため,集束イオンビーム加工観察装置を用いて微小開孔対を作製し,観察を行った.