多層一括プレスによるフォトニック回路形成技術の開発

西野 俊樹; 森井 洋; 笹井 健史; 鈴木 秀明; 土屋 健介; 濱口 哲也; 中尾 政之

doi:10.11522/pscjspe.2008S.0.895.0

2008年度精密工学会春季大会

セッションID: K05

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2008S.0.895.0

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主催: 社団法人精密工学会

多層一括プレスによるフォトニック回路形成技術の開発

*西野俊樹, 森井洋, 笹井健史, 鈴木秀明, 土屋健介, 濱口哲也, 中尾政之

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キーワード: プレス加工, フォトニック回路, 多層膜, 一括形成

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抄録

本研究は，多層膜微細形状プレスによるフォトニック回路の一括形成技術の開発を目的とする．計算より，ピッチ300nm直径150nm高さ80nmの周期的な構造を誘電体多層膜に形成することで，600nm～800nmのバンドギャップが得られること分かった．ガラスやポリマーなどの誘電体と金やアルミニウムなどの金属を交互に積層した基板を作製し，微細形状プレスで基板にフォトニック回路の一括形成を試みた.

責任著者(Corresponding author)

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