ナノインプリントリソグラフィにおける二酸化チタンを用いた残膜除去技術の開発

下田 誠; 長藤 圭介; 濱口 哲也; 中尾 政之

doi:10.11522/pscjspe.2010S.0.1139.0

2010年度精密工学会春季大会

セッションID: R44

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2010S.0.1139.0

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主催: 社団法人精密工学会

ナノインプリントリソグラフィにおける二酸化チタンを用いた残膜除去技術の開発

*下田誠, 長藤圭介, 濱口哲也, 中尾政之

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キーワード: ナノインプリントリソグラフィ, 二酸化チタン

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抄録

ナノインプリントリソグラフィ実用化において，ナノインプリントで生じる残膜を除去するために現在用いられているプラズマエッチングには，加工精度・スループット向上の点に問題がある．そこで本研究の目的は，二酸化チタンの酸化力を利用した残膜除去技術の開発である．金型凸部に二酸化チタンを配置し，ナノインプリント後，紫外線照射することで残膜除去を実現する．

責任著者(Corresponding author)

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