半導体製造装置の異常予兆検知方式

抄録

半導体製造では，製造プロセス変動による不良ウェハ発生防止のため，装置モニタデータを監視し，異常予兆検知を行っている。製造プロセス状態は処理に応じて変化するため，統計的検知では，処理の変動と異常の変動の区別が難しく，予兆検知困難だった。そこで，ノイズ除去処理及び，しきい値切替えを特徴とする予兆検知方式を開発した。本方式を量産データで評価し、従来見逃していた異常を数日前に検知できることを確認した。