定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第9報） 誤差を考慮した解像特性の検討

工藤 良太; 臼杵 深; 高橋 哲; 高増 潔

doi:10.11522/pscjspe.2010S.0.383.0

2010年度精密工学会春季大会

セッションID: E31

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2010S.0.383.0

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主催: 社団法人精密工学会

定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第9報）

誤差を考慮した解像特性の検討

*工藤良太, 臼杵深, 高橋哲, 高増潔

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キーワード: 欠陥検査, 超解像光学, 定在波照明

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抄録

高い解像力を持つ光学式半導体欠陥検査技術の開発にあたって，我々はPZTを用いて定在波による周期的照明パターンを空間的にシフトさせ，散乱光変調情報を含む複数画像を取得し，計算機による後処理を加えることで，レイリー限界を超えた解像を行う方法を研究している．本報では実験において生じることが考えられる定在波の初期位相，ピッチ，シフトステップサイズなどの誤差を考慮した解像特性を検討したので報告する．

責任著者(Corresponding author)

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