大型の角型石英ガラス基板に対するCMPにおけるスラリー流れに関する研究 非流入領域へのスラリー導入の検討

和田 なぎさ; 木村 景一; カチョーンルンルアン パナート

doi:10.11522/pscjspe.2010S.0.729.0

2010年度精密工学会春季大会

セッションID: J46

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2010S.0.729.0

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主催: 社団法人精密工学会

大型の角型石英ガラス基板に対するCMPにおけるスラリー流れに関する研究

非流入領域へのスラリー導入の検討

*和田なぎさ, 木村景一, カチョーンルンルアンパナート

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キーワード: CMP, スラリー流れ, 角型石英ガラス基板

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抄録

液晶ディスプレイパネル等に使用されるガラス材や，パターンを転写するフォトマスクとして表面を高精度に研磨された角型の石英ガラス基板が用いられる．研磨にはChemical Mechanical Polishing (CMP)が用いられるが，基板の大型化に伴いスラリー(研磨液)の非流入領域が形成される．そこで本研究では，従来と異なるスラリー供給方法でCMPを行い，スラリー流れを比較・検討したので報告する．

責任著者(Corresponding author)

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